W dniach 8-9 czerwca 2016 roku w Helsinkach odbyło się Polsko-Fińskie Forum Innowacyjności ”Research and Innovation: a Powerful Tool for Company Growth”. Wzięli w nim udział przedstawiciele między innymi: Fińskiego Centrum Wysokich Technologii i Innowacji VTT, Federacji Fińskich Przedsiębiorców, Narodowego Centrum Badań i Rozwoju, Ministerstwa Spraw Zagranicznych RP oraz polscy przedsiębiorcy. W roli eksperta podczas dyskusji panelowej „Fast Track from R&D to Company Growth” wystąpił prezes InPhoTech – dr inż. Tomasz Nasiłowski.

Finowie dają nam dobry przykład. Oni doskonale wiedzą jak robić „innowacje” - godzić interesy nauki i biznesu oraz wdrażać nowoczesne technologie. Nokia to przecież światowy gigant, a fiński przemysł high-tech świetnie prosperuje. Podczas Forum Finowie wielokrotnie podkreślali, że to, że ich gospodarka jest tak innowacyjna nierozłącznie wiąże się bardzo niskim współczynnikiem korupcji w ich kraju, a kluczowy wpływ na możliwość wdrażania nowych rozwiązań do przemysłu ma wysoki poziom organizacji nauki w Finlandii oraz sprawne i klarowne zarządzanie całym procesem wdrażania innowacji. Jestem bardzo zadowolony, że mogłem wziąć udział w tak istotnym Wydarzeniu i zabrać głos w dialogu polskich i fińskich przedsiębiorców. Poznałem bardzo ciekawych ludzi i nawiązałem interesujące kontakty – powiedział po powrocie z Finlandii Tomasz Nasiłowski.

Prezes naszej firmy był jednym z ekspertów podczas panelu dyskusyjnego podsumowującego pierwszy dzień Forum. Rozmowę poprowadził wiceprezydent Fińskiego Centrum Wysokich Technologii i Innowacji VTT – John Kettle. Głos w dyskusji zabrali również przedstawiciele Narodowego Centrum Badań i Rozwoju, Federacji Fińskich Przedsiębiorców, a także przedsiębiorstw Synthos oraz Tikkurila.